自米国的光源、日耳曼国的镜头和机械技术。
就拿光刻机中的反射镜来说，如果反射镜的面积放到到整个日耳曼国那么大，那么最高凸起不能超过一厘米。
其镜片的打磨难度可想而知有多大。
但这些东西只有做到了真正意义上的顶尖，才符合制造顶尖光刻机的要求。
其他国家根本就没有能力去生产这些顶级的东西。
而然即便是这样，目前世界上顶级光源在精度上也没法超过两纳米。
因为光源的波长限制了。
目前米国提供给amsl公司的光源是极紫外光，也是最先进的‘euv光刻机’上使用的光源。
这种光源的波长能控制到十纳米，已经是极限了。
不过利用平滑衍射效应、光强调节等复杂的曝光控制系统，它能对低于十纳米的曝光区域进行曝光雕刻处理。
这也是为什么十纳米的波长光源能生产出五纳米芯片的原因。
但皮米级的芯片，光源的波长恐怕得控制在一纳米以下。
一纳米的光波长度啊，听起来就让人感觉匪夷所思不可思议。
要知道一个光子能量的多少与波长和频率相关，波长越短，频率就越快，能量越高。
频率越快，能量越高，对光源的控制和收集也就越难。
就目前的极紫外光，光源工作时，需要以5万次/秒的频率，用功率20千瓦的激光来击打真空中20微米大小的锡滴，使液态锡汽化为等离子体，从而产生波长短的极紫外光。
而产生还只是第一步，产生之后，这些波长极端的光
第二百七十三章：十纳米级的碳基芯片？(3/8)