纳米光源的曝光系统，并且能够做到量产的水准。
其实早在两年前，咱们就已经攻克了28纳米芯片制程技术了。
但就是这良品率一直上不来，特极点和三桑在这个级别芯片的良品率这一块，都已经能做到百分之九十五以上了。
可咱们通过两年的努力，也就是看看把良品率做到了百分之五十左右。
而有了春城光机所这套光源的加成，咱们的良品率那自然是大大有所提升。
虽然还不能追上特极点和三桑那种百分之九十左右良品率的程度，但最起码是把咱们和那两家的差距又拉近了一步。
而之所以还有差距，就差在其他加工过程的工艺上了。
么得办法，虽然芯片基本都是靠高精尖的设备生产出来了。
但其实中间很多关键的地方，还是要靠人的。
而咱们就是在这个加工做成中，很多步骤，都缺乏关键的人才。
这也是咱们真正缺乏技术型人才的地方。
而这次有了日本人的出手，春城光机所这一块，是把光源系统的生产制程又提升了一倍。
完成了28纳米制程，向14纳米制程的一个大跨越。
看似只是制程提升了一倍，可实际作用那可就不得了了。
14纳米制程的芯片，在效率上可是比28纳米制程的芯片，要提升20，而在能耗方面，则足足降低了57……
如果这种光源系统要是用来生产碳纳米管芯片，那就能足足把我们目前掌握的碳纳米管芯片技术，在像前提升一代。
1925 爆破通关(2/7)