，最后通过掩膜版上面的图案，以投影的方式在芯片上形成芯片的。
这也就是说，x光刻机不需要光掩膜版就能使用，同时它对透镜系统的要求很低，仅仅只对透镜表面光滑度有一点要求而已。
此外，euv光源在经过十几次光学镜片的折射后，原有光源的能量也会大大遭到削弱，原来的100%，到最后能量可能只会剩下不到3%，这也是为什么对euv光源的要求就是功率足够强，不然的话，华国也不可能在光源上实现不了突破，毕竟方法都知道，不可能造都造不出来。
而x光刻机就不同了，因为是直写式，不需要经过镜片折射，所以根本不用担心光源功率不足的问题，反倒要担心的是曝光时间稍微长了一点，反倒会影响到最终的效果。
当然，x光优点很多，但同样也有缺点。
那就是相比较euv光刻机来说，光刻效率比较低，在实现大规模生产上比较困难，这也是为什么x光刻机没有占据主流的原因，虽然到现在也仍然再用，不过并不是那么引起人们的关心。
不过，这个问题林晓自然是考虑到了，而他觉得x光刻机能搞，便是因为他刚才闪过的灵感，让他有了一个实现x光刻机大规模生产的方法。
那就是利用衍射效应。
x光是能通过晶体进行衍射的，并且一般来说，晶体结构基本上是利用x光衍射来测定的。
但是反过来说，如果选取合适的晶体材料作为透镜，然后利用衍射效应实现对x光的缩放，进而就能实现像euv光刻机那样的生产效
第二百四十章 八月：产量提高2.6倍(2/11)